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解決方案
氧化行業(yè)解決方案
DE壁板氧化再生工藝流程
DE壁板氧化再生工藝
服務(wù)履歷
Open mask行業(yè)解決方案
Open Mask操作流程
QC 流程圖
Open Mask清洗工藝流程
Open Mask清洗規(guī)格說(shuō)明
清洗規(guī)格
半導(dǎo)體行業(yè)解決方案
光伏清洗再生工藝流程-載板
半導(dǎo)體部件清洗再生工藝流程
陶瓷熔射行業(yè)解決方案
DE陶瓷部件清洗再生工藝流程
DE陶瓷部件清洗工藝
服務(wù)履歷
部件表面處理工藝流程
陶瓷熔射簡(jiǎn)介
陶瓷熔射業(yè)務(wù)
產(chǎn)品展示(光電)
產(chǎn)品展示(半導(dǎo)體)
產(chǎn)品展示(半導(dǎo)體ESC)
陶瓷熔射技術(shù)模塊
陶瓷熔射衍生工藝(退鍍技術(shù))
陶瓷熔射衍生工藝(氧化新工藝)
部件表面處理工藝流程
性能測(cè)試氧化新工藝性能指標(biāo)
陶瓷熔射衍生工藝(清洗再生工藝)
部件表面處理工藝流程
洗凈再生技術(shù)能力
特別產(chǎn)品(上電級(jí)的處理)
服務(wù)履歷
洗凈行業(yè)解決方案
PVD部件清洗再生工藝流程
服務(wù)履歷
CF部件清洗再生工藝流程
IMP清洗工藝流程
服務(wù)履歷
內(nèi)襯板部件清洗再生工藝流程
服務(wù)履歷
品控能力
洗凈再生技術(shù)能力
高階制程精密洗凈優(yōu)勢(shì)
光伏清洗再生工藝流程-載板
CVD行業(yè)解決方案
CVD部件清洗再生工藝流程-Diffuser
CVD部件清洗再生工藝流程-Backing Plate
CVD部件清洗再生工藝流程1-Susceptor
CVD部件清洗再生工藝流程2-Susceptor
CVD部件清洗再生工藝流程-Shadow Frame
核心技術(shù)
服務(wù)履歷
加工行業(yè)解決方案
加工部件清洗工藝流程
加工部件清洗工藝
服務(wù)履歷
DE陶瓷部件清洗再生工藝流程

DE陶瓷部件清洗工藝

受入檢查

對(duì)受取部件的來(lái)料品質(zhì)進(jìn)行檢查并把品質(zhì)不良情況及相關(guān)不良照片及時(shí)反饋給客戶。

 

化學(xué)清洗

把部件泡入藥液中進(jìn)行化學(xué)清洗以去除表面沉積物。要點(diǎn):陶瓷、石英類貴重或易碎部件的移動(dòng)運(yùn)輸必須使用專用保護(hù)周轉(zhuǎn)車;部品放在槽體內(nèi)必須用治具適當(dāng)保護(hù)。

 

純水浸泡

將部件放入純水中漂洗或浸泡以去除殘留藥水。

 

中和

用藥水中和掉部件上殘留的藥水和金屬粒子;以更加徹底地去除部品表面殘留的藥液和金屬粒子。

 

純水浸泡

用純水浸泡方法把部品上殘留微量的藥水去除。

 

高壓水沖洗

去除孔內(nèi)殘留污漬及顆粒物。

 

超聲波清洗

用純水超音波清洗方法把部品上殘留的微粒子清洗掉。

 

預(yù)干燥、吹干

去除部件表面水分,已便于最終干燥。

 

最終干燥

將部件放在專用周轉(zhuǎn)車上,推進(jìn)干燥箱,按照工藝要求對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行干燥。

 

品質(zhì)檢查

對(duì)部件外觀、螺孔、表面粗糙度、particle等進(jìn)行檢查確認(rèn)。

 

?真空包裝

對(duì)最終品質(zhì)檢查OK的部件做氣槍吹掃后進(jìn)行真空包裝。

 

?裝箱

將部件放入專用周轉(zhuǎn)箱內(nèi)。

注意:1.按標(biāo)識(shí)區(qū)分各廠家周轉(zhuǎn)箱;2.裝箱前周轉(zhuǎn)箱表面必須保證  干凈無(wú)粉塵。

服務(wù)履歷

部門

產(chǎn)品

客戶

世代

類別

Dry Etch

陶瓷清洗

合肥京東方(B3)

G6

LCD

合肥鑫晟(B5)

G8.5

LCD

重慶京東方(B8)

G8.5

LCD

合肥京東方(B9)

G10.5

LCD

重慶惠科

G8.6

LCD

滁州惠科

G8.6

LCD

南京熊貓

G6

LCD

南京熊貓

G8.5

LCD

中航

G5

LCD

成都天馬

G4.5

LCD

上海天馬

G4.5

LCD

廈門天馬

G6

LTPS

G5.5

LTPS

武漢天馬

G4.5

LCD

G6

OLED

華星光電T4

G6

OLED

國(guó)顯光電

G5.5

OLED

上海和輝

G4.5

OLED

部件表面處理工藝流程

陶瓷熔射簡(jiǎn)介

陶瓷熔射技術(shù):將高純陶瓷通過(guò)等離子體熔射在零件上形成coating層,提高部件在各種Plasma Gas,尤其是以防止因F離子環(huán)境下等引起的部件腐蝕。我司2017年開(kāi)始拓展陶瓷熔射業(yè)務(wù),2019年成立公司陶瓷熔射事業(yè)部,批量導(dǎo)入TFT-LCD,OLED,半導(dǎo)體 熔射再生業(yè)務(wù)。

 

 

等離子噴涂原理圖示

Y2O3 Coating系統(tǒng)介紹:

1.  世界領(lǐng)先的進(jìn)口三電極等離子噴涂設(shè)備

2.  6軸的機(jī)械手臂自動(dòng)化操作方式

3.  3m × 2.5m操作平臺(tái)

 

 

Y2O3 Coating 粉體介紹

我司主要使用日本著名企業(yè)生產(chǎn)的氧化釔球體作為噴涂材料,通過(guò)掃描電鏡觀察,該系列球體更圓整,更規(guī)則非常適合用等離子熱噴涂。

特點(diǎn):

1.產(chǎn)品粒徑分布集中,噴涂性能穩(wěn)定。

2.純度高,且穩(wěn)定。

3.規(guī)?;a(chǎn),在光電行業(yè)有大量的實(shí)用案列。

 

化學(xué)成分

粒徑  µm

流動(dòng)性s/50g

松比

Y2O3>99.9%

D50:30-40

65

>1.8

 

 

Y2O3 Coating 性能介紹(結(jié)合力)

 

Y2O3 Coating 性能介紹(硬度)

 

Y2O3 Coating 性能介紹(孔隙率)

 

Y2O3 Coating 性能指標(biāo)總覽:

材質(zhì)

性能項(xiàng)目

標(biāo)準(zhǔn)值

Y2O3 Coating

厚度

120±10um 

粗糙度

Ra 4~6um

孔隙率

< 3%

硬度

> 400HV

粘結(jié)強(qiáng)度(鋁基材)

> 20Mpa

粘結(jié)強(qiáng)度(陶瓷基材)

> 20Mpa

純度

> 99.9%

陶瓷熔射業(yè)務(wù)

Y2O3 Coating 在光電行業(yè)應(yīng)用范圍

在鋁母材上制備Y2O3 涂層(Al+陽(yáng)極氧化+ Y2O3涂層)

在陶瓷母材上制備Y2O3 涂層(陶瓷+涂層)

產(chǎn)品展示(光電)

產(chǎn)品展示(半導(dǎo)體)

CATHODE  LINER

WALL LINER SLD Ceramic Window Gas Injector
Ceramic  Lid Gas Injector Shield Depo Shutter Exhaust Plate
產(chǎn)品展示(半導(dǎo)體ESC)
陶瓷熔射技術(shù)模塊

陶瓷熔射衍生工藝(退鍍技術(shù))

獨(dú)特的清洗劑配方,最大限度控制部件腐蝕問(wèn)題,提高客戶使用次數(shù)。

清洗前

清洗后

陶瓷熔射衍生工藝(氧化新工藝)

部件表面處理工藝流程

性能測(cè)試氧化新工藝性能指標(biāo)

性能測(cè)試

氧化55-65um耐電壓(kv)

 

膜厚測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)50±5um

參照標(biāo)準(zhǔn)LAM實(shí)驗(yàn)方法,對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行耐HCl的Bubble Test,判定標(biāo)準(zhǔn)為大于120min

 

原廠電極板數(shù)據(jù)測(cè)量

測(cè)量指標(biāo)

耐擊穿電壓(≥3.0KV)(測(cè)試條件:Ac漏電流2mA)

粗糙度Ra=(0.2-0.4)um

膜厚(50-55)um

序號(hào)

耐電壓(kv)

粗度(Ra)

膜厚(um)

1

3.29

0.257

51

2

3.44

0.217

55

3

3.18

0.131

53

4

3.25

0.245

52

5

3.57

0.355

51

6

3.47

0.279

54

7

3.13

0.317

54

8

2.90 

0.214

53

9

3.51

0.276

55

 

我司陽(yáng)極電極板數(shù)據(jù)測(cè)試

序號(hào)

耐電壓(kv)隨槽試樣片

粗度(Ra)產(chǎn)品

膜厚(um)產(chǎn)品

1

3.31

0.350

52

2

3.29

0.349

55

3

3.24

0.335

54

4

3.26

0.299

52

5

3.06

0.297

52

6

3.55

0.340

53

7

3.34

0.362

51

8

3.60

0.347

52

9

3.29

0.351

54

說(shuō)明:我司目前采用新工藝獲取的陽(yáng)極膜性能指標(biāo)和原廠相比較為接近吻合。

 

陽(yáng)極氧化新工藝應(yīng)用在 大尺寸LCD(G8.5以上) ,OLED G 6.0, LTPS 主要解決大功率,高腐蝕氣氛刻蝕過(guò)程中,氧化層耐蝕性不足的問(wèn)題。

目前大尺寸LCD(G8.5以上) ,OLED G 6.0 , LTPS 的陽(yáng)極氧化 以及 陽(yáng)極氧化+Coating 均采用此工藝,反饋良好。

部門

客戶

世代

類別

項(xiàng)目

 DRY ETCH

 

成都京東方B7

G 6.0

OLED

內(nèi)壁板

福州京東方B10

G 8.5

LCD

內(nèi)壁板

武漢京東方B17

G 10.5.

LCD

內(nèi)壁板

華星T4

G 6.0

OLED

內(nèi)壁板、上電極

武漢天馬

G 6.0

OLED

內(nèi)壁板、上電極

華佳彩

G 6.0

LTPs

上電極

 

陶瓷熔射衍生工藝(清洗再生工藝)

before cleaning

after cleaning

before cleaning

after cleaning

before cleaning

after cleaning

before cleaning

after cleaning

部件表面處理工藝流程

注:部件不同,流程會(huì)有相應(yīng)調(diào)整。

 

熔射產(chǎn)品 (使用后)的清洗,包括去除有機(jī)膠類、金屬化蝕刻產(chǎn)物,最終潔凈清洗。

我司具備的優(yōu)勢(shì):

1.10年以上的光電行業(yè)的parts 清洗經(jīng)驗(yàn),

2.在半導(dǎo)體方面 掌握 Lam Research 14、28nm的洗凈技術(shù),具備將半導(dǎo)體ETCH先進(jìn)清洗技術(shù)向光電行業(yè)導(dǎo)入的條件。

洗凈再生技術(shù)能力

目前在OLED,LCD 陶瓷熔射產(chǎn)品在,在積極的開(kāi)發(fā)清洗工藝,嘗試通過(guò)清洗再生的方法,去除熔射層附著污染物 ,同時(shí)盡可能減少對(duì)熔射層的損耗,降低客戶PM成本。

清洗后

 

清洗前

特別產(chǎn)品(上電級(jí)的處理)

針對(duì) 對(duì)particle 較為敏感的部件(如上電級(jí)),我司在100級(jí)無(wú)塵室作業(yè),清洗,干燥,包裝的環(huán)境的particle 水平大大降低,降低了部件重新粘附particle的風(fēng)險(xiǎn)。

 

現(xiàn)區(qū)域  100級(jí) 無(wú)塵室

現(xiàn)區(qū)域  100級(jí)環(huán)境下的超聲波

延長(zhǎng)超聲波時(shí)間至15min

增強(qiáng)對(duì)孔清洗能力

汽水槍對(duì)孔逐一清洗

降低孔內(nèi)殘留的風(fēng)險(xiǎn)

超聲波水質(zhì)在線監(jiān)測(cè)

確保水質(zhì)穩(wěn)定

Class 100 無(wú)塵烘箱干燥

降低表面particle水平

服務(wù)履歷

部門

產(chǎn)品

客戶

產(chǎn)品歸類

世代

類別

DRY ETCH

陶瓷+Coating

成都京東方B19

Shield  base

G8.5

LCD

成都京東方B19

Tel 陶瓷

G8.5

LCD

南京京東方B18

Tel 天板

G8.5

LCD

南京京東方B18

Shield Base

G8.5

LCD

華星T5

ICD陶瓷

G6

IPTS

華星T5

TEL陶瓷

G6

IPTS

華星T3

TEL陶瓷

G6

IPTS

華星T3

YAC陶瓷

G6

IPTS

華星T3

ICD陶瓷

G6

IPTS

華星T4

YAC陶瓷

G6

OLED

華星T4

ICD陶瓷

G6

OLED

華星T4 G4.5

ICD陶瓷

G4.5

OLED

華星T4 TOUCH

TEL陶瓷

G6

OLED

武漢天馬G6

TEL陶瓷

G6

OLED

合肥京東方瑞晟

YAC陶瓷

G8.5

LCD

武漢天馬G4.5

TEL陶瓷

G4.5

LCD